佳能推出纳米压印技术 挑战阿斯麦(ASML.US)EUV霸主地位

获悉，佳能开始推出其纳米压印半导体制造系统，试图通过将该技术定位为比现有最先进工具更简便、更易获取的替代方案，来重振其市场地位。
 

这家总部位于东京的公司的新型芯片制造机器可以利用极紫外光刻（EUV）技术，生产相当于5纳米规模的电路，这一领域由行业领导者阿斯麦(ASML.US)垄断。佳能预计，随着技术的持续进步和优化，其设备将有望实现下一代2纳米的生产水平，该公司周五在一份中说。与竞争对手尼康(NINOY.US)一样，佳能在EUV竞争中已经落后于阿斯麦，但其纳米压印光刻方法可能有助于公司缩小差距。

佳能的设备也可能在美中贸易战中开辟一个新的战场，因为目前唯一可靠的制造5纳米及以下芯片的方法（EUV机器）被贸易制裁禁止进入中国。而日

目前，佳能的发言人拒绝对新设备是否受到日本出口限制发表评论。

纳米压印光刻技术长期以来承诺提供一种低成本的光刻替代方案，并曾经得到了SK海力士和Toshiba Corp(TOSBF.US)等存储芯片制造商的推广。东芝的前存储部门Kioxia在佳能的纳米压印机器达到商业成熟之前就对其进行了测试。佳能现在必须证明它已经解决了过去遇到的问题，如缺陷率高等。

阿斯麦是欧洲最有价值的科技公司，已经连续五个季度实现收入增长和订单激增。这家总部位于荷兰Veldhoven的公司是世界领先芯片制造商的首选EUV供应商，并预计今年净销售额将增长30%。

佳能股价今年已经上涨了26%，受益于日本股市的整体上涨，以及人工智能应用带来的芯片制造设备需求增加。

佳能迄今为止主要专注于用于制造较不先进芯片的产品，在2014年收购了纳米压印先驱Molecular Imprints Inc.，并花了近十年时间研发该技术。作为台积电(TSM.US)的供应商，佳能正在东京北部宇都宫市建造其二十年来第一个新的光刻设备工厂，预计将于2025年投入运营。