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中微公司推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW

发布时间:2023-05-09 16:41编辑:admin已有: 人阅读


  近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex CW。该设备可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台),每个反应腔可以同时加工两片晶圆,实现更高的生产效率。


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