武汉宇恩取得一种光刻制版系统及其制版工艺专利

　　国家知识产权局信息显示，武汉宇恩防伪技术有限公司取得一项名为“一种光刻制版系统及其制版工艺”的专利，授权公告号CN 118818918 B，申请日期为2024年8月。

　　 天眼查资料显示，武汉宇恩防伪技术有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事印刷和记录媒介业为主的企业。企业注册资本6450万人民币，实缴资本6450万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉宇恩防伪技术有限公司参与招投标项目105次，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可2个。